Entwicklung eines Triple-Gate CMOS Prozesses auf SOI-Material - Max Ch Lemme

Entwicklung eines Triple-Gate CMOS Prozesses auf SOI-Material

(Autor)

Buch
137 Seiten
2004 | 1., Aufl.
Shaker (Verlag)
978-3-8322-2668-8 (ISBN)
45,80 inkl. MwSt
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Reihe/Serie Berichte aus der Halbleitertechnik
Sprache deutsch
Maße 148 x 210 mm
Gewicht 206 g
Einbandart Paperback
Themenwelt Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Schlagworte FinFET • Halbleitertechnik • HC/Technik/Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik • MOSFET • Nano-CMOS
ISBN-10 3-8322-2668-0 / 3832226680
ISBN-13 978-3-8322-2668-8 / 9783832226688
Zustand Neuware
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