Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVIII
13-15 April 2011
Seiten
2011
SPIE Press (Hersteller)
978-0-8194-8673-8 (ISBN)
SPIE Press (Hersteller)
978-0-8194-8673-8 (ISBN)
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"This conference was canceled due to the earthquake off the northeast coast of Japan in March 2011. This volume includes some of the papers that were scheduled to be presented at the conference."
| Erscheint lt. Verlag | 15.4.2011 |
|---|---|
| Zusatzinfo | illustrations |
| Verlagsort | Bellingham |
| Sprache | englisch |
| Maße | 152 x 229 mm |
| Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
| ISBN-10 | 0-8194-8673-6 / 0819486736 |
| ISBN-13 | 978-0-8194-8673-8 / 9780819486738 |
| Zustand | Neuware |
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