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Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVIII

13-15 April 2011

Toshio Konishi (Autor)

Microfilm
240 Seiten
2011
SPIE Press (Hersteller)
978-0-8194-8673-8 (ISBN)
106,75 inkl. MwSt
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"This conference was canceled due to the earthquake off the northeast coast of Japan in March 2011. This volume includes some of the papers that were scheduled to be presented at the conference."
Erscheint lt. Verlag 15.4.2011
Zusatzinfo illustrations
Verlagsort Bellingham
Sprache englisch
Maße 152 x 229 mm
Themenwelt Technik Elektrotechnik / Energietechnik
ISBN-10 0-8194-8673-6 / 0819486736
ISBN-13 978-0-8194-8673-8 / 9780819486738
Zustand Neuware
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