Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie
Seiten
2005
|
1., Aufl.
Shaker (Verlag)
978-3-8322-4247-3 (ISBN)
Shaker (Verlag)
978-3-8322-4247-3 (ISBN)
- Titel ist leider vergriffen;
keine Neuauflage - Artikel merken
| Reihe/Serie | Berichte aus der Halbleitertechnik |
|---|---|
| Sprache | deutsch |
| Maße | 148 x 210 mm |
| Gewicht | 195 g |
| Einbandart | Paperback |
| Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
| Schlagworte | Halbleitertechnologie • HC/Technik/Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik • Oxynitrid • Rapid Thermal Processing (RTP) • Siliziumdioxid • Siliziumnitrid |
| ISBN-10 | 3-8322-4247-3 / 3832242473 |
| ISBN-13 | 978-3-8322-4247-3 / 9783832242473 |
| Zustand | Neuware |
| Haben Sie eine Frage zum Produkt? |
Mehr entdecken
aus dem Bereich
aus dem Bereich
DIN-Normen und Technische Regeln für die Elektroinstallation
Buch | Softcover (2023)
Beuth (Verlag)
86,00 €
Kolbenmaschinen - Strömungsmaschinen - Kraftwerke
Buch | Hardcover (2023)
Hanser (Verlag)
49,99 €
